РАЗРАБОТКА МЕТОДА НАНЕСЕНИЯ ТОКОПРОВОДЯЩИХ ДОРОЖЕК НА БУМАЖНУЮ ПОДЛОЖКУ
Аннотация и ключевые слова
Аннотация (русский):
Статья посвящена описанию технологии нанесения токопроводящего материала методом послойного осаждения на бумажную подложку. Метод нанесения материала является «холодным», т.е. экструдер работает при комнатной температуре. Однако, с целью повышения скорости печати принтер оснащен подогреваемой пластиной с максимальной температурой нагрева 120 град. Цельсия. Описание метода нанесения содержит в себе математическое описание процессов, происходящих в процессе нанесения. Оценивается возможность нанесения материла, точность ширины линии в зависимости от ускорений печатной головки. В данной статье приводится расчет механических параметров узлов экструдера для определения требуемой разрешающей способности и точности печати. В статье описываются метод нанесения, температура окружающей среды составляет 20 +/- 3 градуса Цельсия.

Ключевые слова:
Трехмерная печать, электрические схемы, токопроводящие материалы, методики нанесения токопроводящих материалов, особенности нанесения токопроводящих материалов
Список литературы

1. Energy inputs to additive manufacturing: does capacity utilization matter? / M. Baumers, C. Tuck, R. Wildman, I. Ashcroft, R. Hague // EOS. - 2015. - 1000(270). - Pp. 30-40.

2. Adv. Mater / C. N. Hoth, S. A. Choulis, P. Schilinsky, C. J. Brabe. - 2007. - Т. 19. - 3973 p.

3. Doremus, R. H. Viscosity of silica / R. H. Doremus // J. Appl. Phys. - 2002 г.. - № 92. - Pp. 7619-7629.

4. Nano Lett / G. Nystrom, A. Razaq, M. Stromme, L. Nyholm, A. Mihranyan. - 2009. - Т. 9. - Pp. 3635.

5. Advanced Mater / J. J. Adams, E. B. Duoss, T. F. Malkowski, M. J. Motala, B. Y. Ahn, R. G. Nuzzo, J. T. Bernhard, J. A. Lewis. - 2011. - Т. 23. - Pp. 1335.

6. Kang, H. Direct intense pulsed light sintering of inkjet-printed copper oxide layers within six milliseconds / H. Kang, E. Sowade, R.R. Baumann // ACS Applied Materials & Interfaces. - 2014. - № 6(3). -Pp. 1682-1687.

7. Ojovan, M. I. Viscosity of network liquids within doremus approach / M. I. Ojovan, W. E. Lee // J. Appl. Phys. - 2004. - № 95. - Pp. 3803-3810.

Войти или Создать
* Забыли пароль?