<?xml version="1.0"?>
<!DOCTYPE article
PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.4 20190208//EN"
       "JATS-journalpublishing1.dtd">
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" article-type="research-article" dtd-version="1.4" xml:lang="en">
 <front>
  <journal-meta>
   <journal-id journal-id-type="publisher-id">Modeling of systems and processes</journal-id>
   <journal-title-group>
    <journal-title xml:lang="en">Modeling of systems and processes</journal-title>
    <trans-title-group xml:lang="ru">
     <trans-title>Моделирование систем и процессов</trans-title>
    </trans-title-group>
   </journal-title-group>
   <issn publication-format="print">2219-0767</issn>
  </journal-meta>
  <article-meta>
   <article-id pub-id-type="publisher-id">2997</article-id>
   <article-id pub-id-type="doi">10.12737/4949</article-id>
   <article-categories>
    <subj-group subj-group-type="toc-heading" xml:lang="ru">
     <subject>Технические науки</subject>
    </subj-group>
    <subj-group subj-group-type="toc-heading" xml:lang="en">
     <subject></subject>
    </subj-group>
    <subj-group>
     <subject>Технические науки</subject>
    </subj-group>
   </article-categories>
   <title-group>
    <article-title xml:lang="en">Modeling of the influence of TSC in active regions of the elements when designing circuits</article-title>
    <trans-title-group xml:lang="ru">
     <trans-title>Моделирование воздействия ТЗЦ в активных областях элементов микросхем при проектировании</trans-title>
    </trans-title-group>
   </title-group>
   <contrib-group content-type="authors">
    <contrib contrib-type="author">
     <name-alternatives>
      <name xml:lang="ru">
       <surname>Ачкасов</surname>
       <given-names>Александр Владимирович</given-names>
      </name>
      <name xml:lang="en">
       <surname>Achkasov</surname>
       <given-names>A. Vladimirovich</given-names>
      </name>
     </name-alternatives>
     <xref ref-type="aff" rid="aff-1"/>
    </contrib>
    <contrib contrib-type="author">
     <name-alternatives>
      <name xml:lang="ru">
       <surname>Зольников</surname>
       <given-names>Константин Владимирович</given-names>
      </name>
      <name xml:lang="en">
       <surname>Zolnikov</surname>
       <given-names>Konstantin Vladimirovich</given-names>
      </name>
     </name-alternatives>
     <xref ref-type="aff" rid="aff-2"/>
    </contrib>
    <contrib contrib-type="author">
     <name-alternatives>
      <name xml:lang="ru">
       <surname>Смерек</surname>
       <given-names>В. А.</given-names>
      </name>
      <name xml:lang="en">
       <surname>Smerek</surname>
       <given-names>V. A.</given-names>
      </name>
     </name-alternatives>
     <xref ref-type="aff" rid="aff-3"/>
    </contrib>
    <contrib contrib-type="author">
     <name-alternatives>
      <name xml:lang="ru">
       <surname>Скляр</surname>
       <given-names>В. А.</given-names>
      </name>
      <name xml:lang="en">
       <surname>Sklyar</surname>
       <given-names>V. А.</given-names>
      </name>
     </name-alternatives>
     <xref ref-type="aff" rid="aff-4"/>
    </contrib>
   </contrib-group>
   <aff-alternatives id="aff-1">
    <aff>
     <institution xml:lang="ru">Воронежский государственный лесотехнический университет имени Г.Ф. Морозова</institution>
    </aff>
    <aff>
     <institution xml:lang="en">Voronezh State University of Forestry and Technologies named after G.F. Morozov</institution>
    </aff>
   </aff-alternatives>
   <aff-alternatives id="aff-2">
    <aff>
     <institution xml:lang="ru">Воронежский государственный лесотехнический университет имени Г.Ф. Морозова</institution>
     <country>Россия</country>
    </aff>
    <aff>
     <institution xml:lang="en">Voronezh State University of Forestry and Technologies named after G.F. Morozov</institution>
     <country>Russian Federation</country>
    </aff>
   </aff-alternatives>
   <aff-alternatives id="aff-3">
    <aff>
     <institution xml:lang="ru">АО &quot;Научно-исследовательский институт электронной техники&quot;</institution>
     <country>Россия</country>
    </aff>
    <aff>
     <institution xml:lang="en">АО &quot;Научно-исследовательский институт электронной техники&quot;</institution>
     <country>Russian Federation</country>
    </aff>
   </aff-alternatives>
   <aff-alternatives id="aff-4">
    <aff>
     <institution xml:lang="ru">АО &quot;Научно-исследовательский институт электронной техники&quot;</institution>
     <country>Россия</country>
    </aff>
    <aff>
     <institution xml:lang="en">АО &quot;Научно-исследовательский институт электронной техники&quot;</institution>
     <country>Russian Federation</country>
    </aff>
   </aff-alternatives>
   <pub-date publication-format="print" date-type="pub" iso-8601-date="2014-08-08T00:00:00+04:00">
    <day>08</day>
    <month>08</month>
    <year>2014</year>
   </pub-date>
   <pub-date publication-format="electronic" date-type="pub" iso-8601-date="2014-08-08T00:00:00+04:00">
    <day>08</day>
    <month>08</month>
    <year>2014</year>
   </pub-date>
   <volume>7</volume>
   <issue>1</issue>
   <fpage>15</fpage>
   <lpage>17</lpage>
   <self-uri xlink:href="https://naukaru.ru/en/nauka/article/2997/view">https://naukaru.ru/en/nauka/article/2997/view</self-uri>
   <abstract xml:lang="ru">
    <p>Исследуются процессы, которые наблюдаются в активных областях элементов микросхем, при воздействии тяжелых заряженных частиц (ТЗЧ). Определены соотношения для оценки ионизационной реакцией.</p>
   </abstract>
   <trans-abstract xml:lang="en">
    <p>Examines the processes that occur in active regions of the elements of chips, under the influence of heavy charged particles. Defined formulas for estimation of ionization reaction.</p>
   </trans-abstract>
   <kwd-group xml:lang="ru">
    <kwd>САПР</kwd>
    <kwd>тяжелые заряженные частицы</kwd>
    <kwd>микросхема</kwd>
   </kwd-group>
   <kwd-group xml:lang="en">
    <kwd>CAD</kwd>
    <kwd>heavy charged particles</kwd>
    <kwd>chip</kwd>
   </kwd-group>
  </article-meta>
 </front>
 <body>
  <p>Рассмотрим задачу оценки стойкости микросхем к воздействию тяжёлых зараженных частиц, которая решается в предложенной методике проектирования на этапах схемотехнического и функционально-логического моделирования.При воздействии ТЗЧ в элементах микросхем возникают эффекты, которые порождаются потерей энергии частицы при ее прохождении через структуры микросхемы. Эти потери энергии имеют ионизационную или структурную природу и образуются в областях, которые наиболее чувствительны к таким потерям. Данные эффекты оцениваются как локальные, потому что они обусловлены выделением энергии в небольшом объеме – или локальной области элемента, которая чувствительна к воздействию частицы. В силу этого становиться очевидным, что эти эффекты носят случайный характер и соответственно имеют стохастическую природу взаимодействия излучения с веществом. Они приводят к восстановимым отказам, тиристорным эффектам или необратимым отказам. Механизм их взаимодействия с веществом определяется энергией частицы, изменением энерговыделения, угла по которым встречается частица с веществом, размерами области и величиной численного значения трека частицы. Таким образом, главной причиной существования указанных эффектов – это возникновение достаточно большого заряда за сравнительно небольшое время в некоторой небольшой области полупроводниковой структуры микросхемы.В [1,2] показано, что ионизационная реакции эле- мента СБИС, которая вызывает одиночное событие, определяется дрейфовой и диффузионной составляющей процесса сбора в p-n-переходе от трека тяжелой заряженной частицы. На рис. 1 показано изменение величины ионизационного тока в локальной области элемента микросхемы. В первый момент времени доминирует дрейфовая компонента, а затем наблюдается процесс диффузии заряда от попадания тяжелой заряженной частицы. Если сравнивать эти составляющие, то дрейфовая компонента характеризуется значительно большей амплитудой, но небольшой длительностью протекания процессов, и наоборот, диффузионная составляющая имеет небольшую амплитуду воздействия, но действует более продолжительное время.</p>
 </body>
 <back>
  <ref-list>
   <ref id="B1">
    <label>1.</label>
    <citation-alternatives>
     <mixed-citation xml:lang="ru">Агаханян, Т. М. Радиационные эффекты в интегральных микросхемах [Текст] / Т. М. Агаханян, Е. Р. Аствацатурьян, П. К. Скоробогатов. - М. : Энергоатомиздат, 1989.</mixed-citation>
     <mixed-citation xml:lang="en">Agakhanyan, T. M. Radiatsionnye effekty v integral&amp;#180;nykh mikroskhemakh [Tekst] / T. M. Agakhanyan, E. R. Astvatsatur&amp;#180;yan, P. K. Skorobogatov. - M. : Energoatomizdat, 1989.</mixed-citation>
    </citation-alternatives>
   </ref>
   <ref id="B2">
    <label>2.</label>
    <citation-alternatives>
     <mixed-citation xml:lang="ru">Яньков, А. И. Методы обеспечения сбоеустойчивости к одиночным событиям в процессе проектирования для микропроцессоров K1830BE32МУ и 1830ВЕ32У [Текст] / А. И. Яньков, В. А. Смерек, В. П. Крюков, В. К. Зольников // Моделирование систем и процессов. - 2012. - № 1. - С. 92-95.</mixed-citation>
     <mixed-citation xml:lang="en">Yan&amp;#180;kov, A. I. Metody obespecheniya sboeustoychivosti k odinochnym sobytiyam v protsesse proektirovaniya dlya mikroprotsessorov K1830BE32MU i 1830VE32U [Tekst] / A. I. Yan&amp;#180;kov, V. A. Smerek, V. P. Kryukov, V. K. Zol&amp;#180;nikov. Modelirovanie sistem i protsessov. - 2012. - № 1. - S. 92-95.</mixed-citation>
    </citation-alternatives>
   </ref>
   <ref id="B3">
    <label>3.</label>
    <citation-alternatives>
     <mixed-citation xml:lang="ru">Крюков, В. П. Результаты экспериментальных исследований микросхем 1882ВЕ53У, К1882ВЕ53МУ и 1830ВЕ32У на стойкость к воздействию тяжелых заряженных частиц [Текст] / В. П. Крюков, А. И. Яньков, В.Г. Калинин, В. А. Смерек // Моделирование систем и процессов. - 2011. - № 4. - С. 41-44.</mixed-citation>
     <mixed-citation xml:lang="en">Kryukov, V. P. Rezul&amp;#180;taty eksperimental&amp;#180;nykh issledovaniy mikroskhem 1882VE53U, K1882VE53MU i 1830VE32U na stoykost&amp;#180; k vozdeystviyu tyazhelykh zaryazhennykh chastits [Tekst] / V. P. Kryukov, A. I. Yan&amp;#180;kov, V.G. Kalinin, V. A. Smerek. Modelirovanie sistem i protsessov. - 2011. - № 4. - S. 41-44.</mixed-citation>
    </citation-alternatives>
   </ref>
  </ref-list>
 </back>
</article>
